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美国HARRICK原位池,原位漫反射附件,低温反应室,低温红外附件,CHC-CHA-3红外低温池,低温反应池,CHC-VUV-3紫外漫反射低温反应室,红外漫反射附件,用于在-150°C至600°C对粉末进行漫反射测量,适用于多相催化、气固相互作用、光化学反应, HARRICK 原位漫反射附件 HARRICK 低温红外附件 HARRICK 光谱仪附件原位漫反射
Harrick Harrick 红外漫反射高温反应室对于具有高比表面积的粉末特别有效。这使得漫反射成为研究多相催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制的一个有价值的工具。这种高温反应室非常适合在仔细控制的温度和压力下进行此类研究。Harrick HVC-DRM-5 原位池应用允许在受控压力和大范围温度下进行漫反射(漂移)光谱测量。
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